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產業(yè)鏈協同優(yōu)勢疊加高技術門檻壁壘 多氟多電子級氫氟酸需求現急速增長
發(fā)布時間:2019-08-07 來源:證券時報·e公司     分享到:

產業(yè)鏈協同優(yōu)勢疊加高技術門檻壁壘 多氟多電子級氫氟酸需求現急速增長

      7月4日起,日本開始實行限制向韓國出口電視、智能手機中OLED顯示器部件使用的“氟聚酰亞胺”、半導體制造過程中必須使用的“光刻膠”和“高純度氟化氫”等3個品種。我國企業(yè)在半導體材料以及OLED領域的出口替代引發(fā)市場廣泛關注。

       作為目前全球工業(yè)級氫氟酸產能最大企業(yè),多氟多(002407)在電子級氫氟酸領域的產業(yè)鏈協同優(yōu)勢及高技術門檻壁壘不容小視。近期,韓國企業(yè)赴中國洽談電子級氫氟酸采購的頻率明顯增強,而多氟多當前產能已難以滿足急速增長的市場需求。 

電子級氫氟酸的高門檻

     日本限制向韓國出口的高純度氟化氫,又被稱作電子級氫氟酸,在半導體制造工藝中主要用于清洗、刻蝕等步驟。

     按照行業(yè)分析人士的說法,由于半導體中的金屬離子雜質會影響半導體中少子的壽命、表面的導電性、門氧化物的完整性和穩(wěn)定性等參數,且金屬離子雜質在高溫下或電場下會向半導體本體擴散或在表面擴大分布,導致半導體性能下降,因此半導體級氫氟酸對其中的金屬離子含量有非常嚴格的要求,且適用的晶圓半徑越大,制程越先進,對金屬離子含量的要求越高。

   “基于對生產工藝技術的高要求,對于國產企業(yè)而言,電子級氫氟酸產品門檻較高,外圍企業(yè)并不容易介入?!倍喾喔倍麻L李云峰與證券時報·e公司記者交流時稱,半導體用的電子級氫氟酸所有單項金屬雜質的質量分數≤0.1μg/L,對應SEMI國際通用標準等級中,為Grade 4(G4)以上等級的電子級氫氟酸;對應國內行業(yè)標準中,UP-SS及以上等級的電子級氫氟酸。而對于現在國際上主流的12寸晶圓來說,其制造過程中需要金屬離子含量低于0.0001μg/L,對應SEMI Grade 5(G5)或者UP-SSS標準。

     有不完全統(tǒng)計顯示,目前我國電子級氫氟酸生產廠家有十一家左右(包括已投產及在建),但是我國電子級氫氟酸技術還處于中低階段,目前能達到半導體所用UP-SS級別(即G4級)的企業(yè)僅三四家,其中已投產的主要是多氟多(G5)和濱化股份(G4);能達到12寸晶圓使用需求的電子級氫氟酸,即G5級別 或 UP-SSS級別的,目前只有多氟多和正在建設中的湖北興力。

      李云峰也介紹稱,2013年起多氟多已建立了萬級清洗、千級灌裝、百級分析室、電子級自動灌裝線,制程設計為全球最高端純化工藝UPSS級,產品純度達到PPT級。目前公司電子級氫氟酸的產品性能已經優(yōu)于行業(yè)內SEMI-C12之標準,陰離子(各種酸根離子)含量<5ppb,陽離子含量<10ppt,顆粒(粒徑≥0.2μm)≤10個/ml,完全可以滿足國內主流8”,12”集成電路生產的工藝要求。

產業(yè)鏈優(yōu)勢持續(xù)顯現

從生產冰晶石的初級氟化工起家,到開辟六氟磷酸鋰市場實現行業(yè)第一的目標,多氟多在氟化工領域的探索已有數十年歷史,產業(yè)鏈優(yōu)勢盡顯。

    “多氟多從1988年開始做冰晶石開始,跟氫氟酸打交道已經30多年了,是國內第一家采用無水氫氟酸裝置做無水氟化鋁的企業(yè)。公司做工業(yè)級氫氟酸的產能最大,歷史也最長?!闭劦焦驹诜ば袠I(yè)的產業(yè)鏈優(yōu)勢,李云峰稱,在產業(yè)鏈最上游,多氟多擁有自己的螢石礦資源,同時,公司工業(yè)級氫氟酸產能已做到全球第一的位置。

      2012年,多氟多對白銀中天化工有限責任公司(下稱“白銀中天”)實施并購重組,新建高性能無水氟化鋁配套無水氟化氫項目和5萬噸/年無水氟化氫項目。此后在2017年6月,與寧夏金和化工有限公司共同投資設立寧夏盈氟金和科技有限公司(下稱“盈氟金和”),從事氟化鹽的生產經營業(yè)務。



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