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【原創(chuàng)】第三代半導(dǎo)體材料——碳化硅
發(fā)布時間:2022-05-11 來源:中國粉體網(wǎng)     分享到:

      半導(dǎo)體行業(yè)作為現(xiàn)代電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ),是支撐國民經(jīng)濟(jì)高質(zhì)量發(fā)展的重要行業(yè)。第三代半導(dǎo)體指的是SiC、GaN、ZnO、金剛石(C)、AlN等具有寬禁帶(Eg>2.3eV)特性的新興半導(dǎo)體材料。碳化硅是目前發(fā)展最成熟的第三代半導(dǎo)體材料。

1 碳化硅晶體結(jié)構(gòu)


碳化硅(SiC)由碳(C)原子和硅(Si)原子組成,密度是3.2g/cm3,天然碳化硅非常罕見,主要通過人工合成。其晶體結(jié)構(gòu)具有同質(zhì)多型體的特點,在半導(dǎo)體領(lǐng)域最常見的是具有立方閃鋅礦結(jié)構(gòu)的3C-SiC和六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)的4H-SiC和6H-SiC。


2 碳化硅基本性質(zhì)


碳化硅硬度在20℃時高達(dá)莫氏9.2-9.3,是最硬的物質(zhì)之一,可以用于切割紅寶石;


導(dǎo)熱率超過金屬銅,是Si的3倍、GaAs的8-10倍,且其熱穩(wěn)定性高,在常壓下不可能被熔化;


碳化硅具有寬禁帶、耐擊穿的特點,其禁帶寬度是Si的3倍,擊穿電場為Si的10倍。


4H-SiC和6H-SiC的材料參數(shù)

 

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3 碳化硅材料的發(fā)展歷程


1824年,當(dāng)時的瑞典科學(xué)家Berzelius在人工合成金剛石的實驗中意外發(fā)現(xiàn)了碳化硅這一物質(zhì)。但因為碳化硅在自然界存量極少,沒能引起足夠的關(guān)注。


1885年,另一位化學(xué)家Acheson在石英砂與碳的混合加熱過程中,高溫生成了SiC晶體,這也是人類歷史上首次制備純凈的碳化硅。


1959年,一位荷蘭科學(xué)家提出了一種通過升華的方式讓單晶體生長的方法,隨后又在1978年被俄羅斯科學(xué)家進(jìn)行了改良和優(yōu)化。


1979年,以碳化硅為主要材料的藍(lán)色發(fā)光二極管被發(fā)明了出來。


直到現(xiàn)在,在后續(xù)的研發(fā)和應(yīng)用過程中,碳化硅以各種形態(tài)和應(yīng)用方式在電子信息存儲、傳輸和數(shù)據(jù)通訊等相關(guān)行業(yè)內(nèi)發(fā)揮了巨大的作用,憑借其穩(wěn)定的化學(xué)特性和優(yōu)秀的半導(dǎo)體材料特質(zhì),在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域獲得了極大的發(fā)展空間。


4 碳化硅半導(dǎo)體的優(yōu)勢

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5 碳化硅半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈


碳化硅半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈主要包括“碳化硅高純粉料→單晶襯底→外延片→功率器件→模塊封裝→終端應(yīng)用”等環(huán)節(jié)。



5.1 碳化硅高純粉料


碳化硅高純粉料是采用PVT法生長碳化硅單晶的原料,其產(chǎn)品純度直接影響碳化硅單晶的生長質(zhì)量以及電學(xué)性能。


碳化硅粉料有多種合成方式,主要有固相法、液相法和氣相法3種。其中,固相法包括碳熱還原法、自蔓延高溫合成法和機(jī)械粉碎法;液相法包括溶膠-凝膠法和聚合物熱分解法;氣相法包括化學(xué)氣相沉積法、等離子體法和激光誘導(dǎo)法等。


5.2 單晶襯底


單晶襯底是半導(dǎo)體的支撐材料、導(dǎo)電材料和外延生長基片。生產(chǎn)碳化硅單晶襯底的關(guān)鍵步驟是單晶的生長,也是碳化硅半導(dǎo)體材料應(yīng)用的主要技術(shù)難點,是產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)密集型和資金密集型的環(huán)節(jié)。目前,SiC單晶生長方法有物理氣相傳輸法(PVT法)、液相法(LPE法)、高溫化學(xué)氣相沉積法(HT-CVD法)等。

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5.3 外延片


碳化硅外延片,是指在碳化硅襯底上生長了一層有一定要求的、與襯底晶向相同的單晶薄膜(外延層)的碳化硅片。實際應(yīng)用中,寬禁帶半導(dǎo)體器件幾乎都做在外延層上,碳化硅晶片本身只作為襯底,包括GaN外延層的襯底。


目前,碳化硅單晶襯底上的SiC薄膜制備主要有化學(xué)氣相淀積法(CVD)、液相法(LPE)、升華法、濺射法、MBE法等多種方法。其中,CVD法是制備高質(zhì)量碳化硅晶體薄膜材料與器件的主要方法。


5.4 功率器件


采用碳化硅材料制造的寬禁帶功率器件,具有耐高溫、高頻、高效的特性。


按照器件工作形式,SiC功率器件主要包括功率二極管和功率開關(guān)管。SiC功率器件與硅基功率器件一樣,均采用微電子工藝加工而成。


從碳化硅晶體材料來看,4H-SiC和6H-SiC在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用最廣,其中4H-SiC主要用于制備高頻、高溫、大功率器件,而6H-SiC主要用于生產(chǎn)光電子領(lǐng)域的功率器件。


5.5 模塊封裝


模塊封裝可以優(yōu)化碳化硅功率器件使用過程中的性能和可靠性,可靈活地將功率器件與不同的應(yīng)用方案結(jié)合。


目前,量產(chǎn)階段的相關(guān)功率器件封裝類型基本沿用了硅功率器件。碳化硅二極管的常用封裝類型以TO220為主,碳化硅MOSFET的常用封裝類型以TO247-3為主,少數(shù)采用TO247-4、D2PAK等新型封裝方式。


5.6 終端應(yīng)用


碳化硅器件具有體積小、功率大、頻率高、能耗低、損耗小、耐高壓等優(yōu)點。當(dāng)前主要應(yīng)用領(lǐng)域:各類電源及服務(wù)器,光伏逆變器,風(fēng)電逆變器,新能源汽車的車載充電機(jī)、電機(jī)驅(qū)動系統(tǒng)、直流充電樁,變頻空調(diào),軌道交通,軍工等。


6 碳化硅寬禁帶半導(dǎo)體目前存在問題


①大尺寸SiC單晶襯底制備技術(shù)仍不成熟。


目前國際上已經(jīng)開發(fā)出了8英寸SiC單晶樣品,單晶襯底尺寸仍然偏小、缺陷水平仍然偏高。并且缺乏更高效的SiC單晶襯底加工技術(shù);p型襯底技術(shù)的研發(fā)較為滯后。


中國SiC單晶材料領(lǐng)域還存在以下問題:SiC單晶企業(yè)無法為國內(nèi)已經(jīng)/即將投產(chǎn)的6英寸芯片工藝線提供高質(zhì)量的6英寸單晶襯底材料;SiC材料的檢測設(shè)備完全被國外公司所壟斷。


②n型SiC外延生長技術(shù)有待進(jìn)一步提高。


③SiC功率器件的市場優(yōu)勢尚未完全形成,尚不能撼動目前硅功率半導(dǎo)體器件市場上的主體地位。


國際SiC器件領(lǐng)域:SiC功率器件向大容量方向發(fā)展受限制;SiC器件工藝技術(shù)水平比較低;缺乏統(tǒng)一的測試評價標(biāo)準(zhǔn)。


中國SiC功率器件領(lǐng)域存在以下3個方面差距:(1)在SiCMOSFET器件方面的研發(fā)進(jìn)展緩慢,只有少數(shù)單位具備獨(dú)立的研發(fā)能力,產(chǎn)業(yè)化水平不容樂觀。(2)SiC芯片主要的工藝設(shè)備基本上被國外公司所壟斷,特別是高溫離子注入設(shè)備、超高溫退火設(shè)備和高質(zhì)量氧化層生長設(shè)備等,國內(nèi)大規(guī)模建立SiC工藝線所采用的關(guān)鍵設(shè)備基本需要進(jìn)口。(3)SiC器件高端檢測設(shè)備被國外所壟斷。


④目前SiC功率模塊存在的主要問題:(1)采用多芯片并聯(lián)的SiC功率模塊,會產(chǎn)生較嚴(yán)重的電磁干擾和額外損耗,無法發(fā)揮SiC器件的優(yōu)良性能;SiC功率模塊雜散參數(shù)較大,可靠性不高。(2)SiC功率高溫封裝技術(shù)發(fā)展滯后。


⑤SiC功率器件的驅(qū)動技術(shù)尚不成熟。


⑥SiC器件的應(yīng)用模型尚不能全面反映SiC器件的物理特性。一般只適合于對精度要求較低的常規(guī)工業(yè)場合。


7 SiC器件在各行業(yè)中的應(yīng)用及優(yōu)勢


電源/大型服務(wù)器:用于電源及功率因數(shù)校正器內(nèi)部,減積減重、提高效率、降低損耗。


光伏:用于光伏逆變器中,光伏發(fā)電產(chǎn)生的電流為直流電,需要通過逆變器轉(zhuǎn)換為交流電以實現(xiàn)并網(wǎng)。采用SiC功率器件可以減積減重;提高逆變轉(zhuǎn)化效率2%左右,綜合轉(zhuǎn)換效率達(dá)到98%;降低損耗,提高光伏發(fā)電站經(jīng)濟(jì)效益;SiC材料特性,降低故障率。


風(fēng)電:用于風(fēng)電整流器、逆變器、變壓器,風(fēng)力發(fā)電產(chǎn)生的交流電易受風(fēng)力影響使得電壓、電流不穩(wěn)定,先要經(jīng)過整流為直流電后再逆變成交流電實現(xiàn)并網(wǎng),提高效率、降低損耗,同時成本和質(zhì)量分別減少50%和25%。


新能源汽車車載充電機(jī)(OBC):減積減重、提高效率、降低損耗。


新能源汽車電機(jī)驅(qū)動系統(tǒng):利用SiC功率模塊體積比硅基模塊縮小1/3~2/3,減積減重;電力損耗減少47%,開關(guān)損耗85%,提升電力使用效率;開關(guān)頻率可達(dá)硅基IGBT10倍以上,提高開關(guān)頻率將顯著減小電感器、電容器等周邊部件的體積和成本。減積減重;發(fā)熱量也只有硅器件的1/2,有非常優(yōu)異的高溫穩(wěn)定性,散熱處理更容易,散熱體積減小,可使得車輛冷卻系統(tǒng)的體積減少60%,甚至消除了二次液體的冷卻系統(tǒng),減積減重;可實現(xiàn)逆變器與馬達(dá)一體化,減積減重??删C合提高新能源汽車5%~10%左右的續(xù)航里程。


新能源汽車直流充電樁:減積減重;提高充電效率至少1%,達(dá)到96%以上的轉(zhuǎn)化效率;由于SiC功率器件對溫度依賴性較低,提高夏季高溫時段電能轉(zhuǎn)化效率;降低電能損耗,提升大型充電站的經(jīng)濟(jì)效益;充電樁系統(tǒng)成本與硅基基本持平,性價比較高。


空調(diào):用于變頻空調(diào)前端的功率因數(shù)校正(PFC)電源內(nèi)部,體積和質(zhì)量大幅減少1/2以上,功耗降低15%,綜合成本降低10%。


軌道交通:采用SiC逆變器,可使車輛系統(tǒng)電力損耗降低30%以上,零部件體積及質(zhì)量減少40%,效率及速度提升。


電磁感應(yīng)加熱:減積減重、提高效率、降低損耗。


軍工領(lǐng)域:各種車載、機(jī)載、船載、彈載等電源裝置,減積減重、提高效率、降低損耗。


8結(jié)語


碳化硅憑借其優(yōu)良的物理化學(xué)性質(zhì)獲得了廣泛的應(yīng)用,迅速占領(lǐng)了半導(dǎo)體材料市場的半壁江山。隨著生產(chǎn)成本的不斷下降,優(yōu)異的性能讓碳化硅在功率器件的行業(yè)中實現(xiàn)了對硅單質(zhì)半導(dǎo)體的逐步取代。而面對世界范圍內(nèi)發(fā)展空間巨大的碳化硅半導(dǎo)體市場,我國需要盡快提升研發(fā)實力,完善碳化硅半導(dǎo)體的發(fā)展體系。


參考來源:

【1】楊璽,等.簡析碳化硅在半導(dǎo)體行業(yè)中的發(fā)展?jié)摿?云南科技管理.2019.

【2】蔡蔚,等.第三代寬禁帶功率半導(dǎo)體及應(yīng)用發(fā)展現(xiàn)狀.科技導(dǎo)報.2021.

【3】劉金婷,等.碳化硅半導(dǎo)體材料應(yīng)用及發(fā)展前景.工業(yè)技術(shù).2019.

【4】曹峻.碳化硅半導(dǎo)體技術(shù)和市場應(yīng)用綜述.集成電路應(yīng)用.2018.

【5】劉昊.基于PVT法的SiC單晶體生長感應(yīng)加熱電磁、熱耦合仿真建模與分析.山東大學(xué).2021.

(中國粉體網(wǎng)編輯整理/星耀)

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